技术编号:6993234
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在半导体或液晶基板的制造工序中用于清洗基板等的准分子光照射装置中,在准分子灯的保持结构具有特征的灯单元。背景技术近年来,在半导体或液晶基板的制造工序中,作为除去附着在硅晶片或玻璃基板的表面上的有机化合物等污垢的方法,使用了紫外线的干洗方法被广泛利用。尤其是在使用了从准分子灯放射的真空紫外线的臭氧等活性氧的清洗方法中,提出有各种以更高效率且短时间进行清洗的清洗装置。图6是示出日本特开2009-252662号公报中公开的紫外线照射装置100的剖视图。...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。