技术编号:6996296
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于使用等离子体对半导体晶片等被处理体实施成膜处理和蚀刻处理等的等离子体处理装置,特别是涉及在半导体处理领域中利用的技术。在此,所谓半导体处理是指为了通过在半导体晶片和IXD (Liquid Crystal Display 液晶显示器)这样的 FPD(Flat Panel Display 平板显示器)用的玻璃基板等被处理基板上以规定的图案形成半导体层、绝缘层、导电层等,在该被处理体上制造包括半导体设备、与半导体设备连接的配线路、电极等构造物而实施...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。