技术编号:6996943
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于一种具有自行对准接触窗(Self-Aligned Contact,SAC)的半导体元件的制造方法及结构,且特别是有关于一种具有自行对准接触窗的存储器元件的制造方法及结构。背景技术 目前极大规模集成电路(ULSI)工艺分辨率已经发展到0.18微米以下,即深度对宽度或直径的比例愈来愈大,金属和半导体的接触窗也愈来愈小,因此要如何克服愈来愈小的线宽,防止接触窗发生对准失误(Misalignment),已成为半导体业界的研发重点。为了克服愈来愈小的线...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。