技术编号:6998803
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及。特别是适用于在半导体元件和液晶元件、磁性材料等的微细图案制造中的微蚀刻用曝光装置。背景技术 在使用光刻技术制造器件时,以往一直使用把描在掩模或者标线片(在本申请中可以交换使用这两个用语)上的图案用投影光学系统投影在晶片上转印图案的投影曝光装置。投影曝光装置一般具有利用从光源射出的光束照射掩模的照射光学系统和被配置在掩模和被处理体之间的投影光学系统。在照射光学系统中,典型的是,为了得到均匀的照射区域把来自光源的光束导入蝇眼透镜等的光学积分仪,把光...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。