技术编号：7005266
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种方法，用来传送能将图案加载到极端紫外电磁辐射投射光束上的基片或掩模、贮藏箱，还涉及适于该方法的设备或装置，例如，一个平版投射装置，它包括一个用来提供极端紫外电磁磁辐射投射光束的辐射系统；一个用来固定反射掩模的掩模台，其中掩模用来根据所需的图案在掩模反射投射光束时将图案加载到投射光束上，产生带图案的投射光束；一个用来固定基片的基片台；一个用来将带图案的投射光束投射到基片上的目标部分的投射系统。平版投射装置可在，例如，集成电路(IC)制造中得到使...
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