技术编号:7006964
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及适宜用作用于以光刻蚀法为中心的纳米加工的高分子材料的超支化聚合物及其制造方法,以及含有该超支化聚合物作为抗蚀剂材料的基础聚合物的可以形成超LSI制造用的微细图案的抗蚀剂组合物。背景技术近年来,对于作为微细加工技术受到重视的光刻蚀法,由于光源的短波长化而使微细化不断发展,实现了超LSI的高集成化。因此,在抗蚀剂组合物中,对各光源具有透明的化学结构的基础聚合物的开发在不断发展。例如,对于KrF准分子激光(波长248nm),提出了含有以PHS(聚羟基苯...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。