技术编号:7008657
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种正负胶工艺结合的微带线的制造方法,包括以下步骤1)在玻璃片或者硅片上旋涂一层正胶作为器件释放的牺牲层;2)在正胶上用磁控溅射工艺沉积一层Cu金属作为电镀的种子层;3)在上述的Cu种子层上涂正胶,并光刻;4)电镀Ni作为微带线接地层;5)溅射Cu金属层;6)在上述得到的Cu层上面涂覆SU-8胶并光刻;7)溅射Cr/Cu电镀种子层;8)在SU-8介质层上涂胶、光刻;9)电镀微带线;10)用溶剂将正胶溶解,使以SU-8胶作为介质层的微带线器件从玻...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。