技术编号:7011958
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。具有强吸收结构的高速SNSPD及其制备方法,该SNSPD基于高折射率入射介质和空气腔结构,可以进一步提高超导纳米线的光子吸收率,与现有技术相比,本发明用相同材料和厚度的超导超薄膜制成纳米线的条件下,用更低的占空比就可以实现接近于100%的吸收率,这使得电子束曝光步骤的难度大大降低,这尤其对于超细纳米线的制备来说更为有利,而SOI衬底的采用则可以同时保证超导薄膜的高质量生长,不影响探测器的本征量子效率,另外,在保证同样大的有效探测面积的条件下,由于需要的纳米...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。