技术编号:7014137
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了一种方法,该方法包括在衬底上形成第一光刻胶层;在第一光刻胶层上方形成第二光刻胶层;以及对第一光刻胶层和第二光刻胶层执行电子束(e-beam)光刻曝光工艺,从而在第一光刻胶层中形成第一潜在部件和在第二光刻胶层中形成第二潜在部件。专利说明[0001] 相关申请交叉引用[0002] 本专利申请是于2013年5月31日提交的标题为"Method To Define Multiple Layer Patterns Using A Single Expos...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。