技术编号:7015178
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供一种,属于离子注入,其可解决现有的离子注入设备离子束的稳定性和均匀性差的问题。本发明的离子注入设备离子束的稳定性和均匀性差的问题,通过检测不同减速电压下束流密度和束流分布不均匀度,获得工作减速电压,使离子注入设备在工作减速电压下工作,保证了离子束的均匀性和稳定性,从而保证每个批次和不同批次之间处理的基材的性能保持相对一致。专利说明[0001]本发明属于离子注入,具体涉及一种。背景技术[0002]在半导体器件的制造中,离子注入用于为显示面板、半导体...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。