技术编号：7015735
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种高密度和深宽比垂直玻璃通孔的刻蚀方法，以及包含上述刻蚀方法在内的一种刻蚀石英玻璃的系统。通过在玻璃晶圆工件沉积一层适当厚度的掩膜，然后进行反应离子刻蚀在整个工件区域的掩膜上开出一组通孔，随后沉积一层钝化层，因为玻璃的刻蚀速率远大于对掩膜的刻蚀速率，就能保证玻璃通孔的垂直度。刻蚀熔融石英玻璃的系统除包括反应腔，射频激励，气体交换系统阀门，反应腔真空控制阀门之外，还包含一个加热装置。加热装置位于反应腔内，通过其内置的加热部件和冷却部件，以及一个...
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