技术编号：7015785
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了，包括选择锗片，将锗片置于丙酮和乙醇溶液中分别进行超声清洗，去除锗片表面的有机污染物；采用盐酸溶液和去离子水对锗片进行清洗，去掉残留在锗片表面的不规整的本征氧化锗薄膜和金属离子；将锗片置于双氧水和氨水混合溶液中进行清洗，使得在锗片表面产生一层锗的氧化物薄膜作为牺牲层，从而去除锗片表面的缺陷；采用盐酸溶液对锗片进行钝化处理，从而用氯原子修饰锗表面的悬挂键，获得稳定的锗表面。本发明提供的锗表面清洗与钝化的方法，具有操作简单、使用方便、成本低廉、钝化...
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