技术编号:7019380
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。平滑的含硅膜 相关申请的交叉引用 本申请要求于2010年9月13日提交的名称为“ IN-SITU PLASMA-ENHANCEDCHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF FILM STACKS”的美国临时专利申请序列 N0.61/382,465 ;于2010年9月13日提交的名称为“SMOOTH SI LANE-BASED FILMS,”的美国临时专利申请序列 N0.61/382,468 ;于 2010 年 10 月 19 日提交的名称为...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。