技术编号：7024110
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型的一种静电吸附承载盘，可吸附一晶圆，并包括一承载主体，设置于一电浆制程设备中；以及一静电层，设置于该承载主体的上方，并通过一静电力吸附一晶圆；其中，该静电力透过一静电产生器产生。本实用新型的静电吸附承载盘，在生产机台外产生静电力，吸附晶圆后，再装入机台内；如此，机台内在作业时，无须等待静电吸附的步骤，完成生产作业后，直接再更换一个乘载有晶圆的静电吸附承载盘，可加快作业的速度，提高产能。专利说明静电吸附承载盘[0001]本实用新型涉及半导体的设备，...
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