技术编号:7036992
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种处理反应器壳体的处理室(101)内的至少一个基板(105,106,107)的方法,其中,将所述一个或多个基板(105,106,107)放置于可使用加热元件(109,110,111)加热的基座(108)上,其中,使用加热元件(109,110,111)来加热基座(108)的空间配属区域,所述加热元件分别对应该基座(108)的朝向处理室(101)一侧的表面区域(112,113,113',114),其中,在多个测量点上通过光学测量传感器(1至35)对...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。