技术编号：7037156
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于三元和四元钴合金Co-M-P、Co-M-B及Co-M-B-P的无电沉积的水性碱性镀浴组合物，其中M选自由Mn、Zr、Re、Mo、Ta及W组成的群组，所述组合物包含炔丙基衍生物作为稳定剂。由其得到的钴合金层适用作例如半导体装置、印刷电路板及IC衬底等电子装置中的障壁层和顶盖层。专利说明用于钴合金无电沉积的碱性镀浴 [0001] 本发明涉及用于三元和四元钴合金的无电沉积的水性碱性镀浴组合物。自所述镀 浴沉积的钴合金适用作半导体装置、印刷电路...
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