技术编号:7037165
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明的实施例关于以改善的均匀性提供处理气体至处理腔室的方法与设备。本发明的一个实施例提供气体注入组件。气体注入组件包括入口枢纽、喷嘴与分配插入件,喷嘴具有抵靠入口枢纽设置的数个注入通道,分配插入件设置于喷嘴与入口枢纽之间。分配插入件具有一个或多个气体分配通道,一个或多个气体分配通道被配置以将入口枢纽连接至喷嘴的数个注入通道。一个或多个气体分配通道各自具有与数个出口连接的一个入口,且入口与数个出口的各个出口之间的距离是实质上相等的。专利说明用于等离子体干法...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。