半导体装置制造方法技术资料下载

技术编号:7041330

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本发明提供防止向内部电路的水分浸入的半导体装置。该半导体装置包括在焊垫下层形成的衬底多晶硅膜(10),衬底多晶硅膜(10)上方通过层间绝缘膜(21)而设置的焊垫(1),以包围焊垫(1)的外侧的方式配置的外围布线(3),其中外围布线(3)与衬底多晶硅膜(10)通过连续的外围接触件来连接,由此阻断从焊垫通向内部电路的水分。专利说明半导体装置[0001]本发明涉及半导体装置,尤其涉及具有焊垫的半导体装置。背景技术[0002]半导体装置为了保证长期可靠性,必须通过...
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