离子束刻蚀深度的监测方法技术资料下载

技术编号:7041780

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本发明提供了一种,其特征在于,包括以下步骤步骤一在石英晶振片的电极面上镀上一层标准材料作为镀膜层,得到镀膜石英晶振片;步骤二将镀膜石英晶振片与待刻蚀材料置入离子束刻蚀机中,并将镀膜石英晶振片与频率检测装置相连;步骤三同时对待刻蚀材料和镀膜层进行刻蚀,频率检测装置对镀膜层的刻蚀深度进行实时监控,当频率检测装置监测到镀膜层的刻蚀深度达到预定刻蚀深度时,停止刻蚀,得到符合目标刻蚀深度的刻蚀材料。本发明提供的所用装置简单,易于操作,精确度好,成本较低。专利说明[0...
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