技术编号：7043121
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于无内嵌式SiGe的HKMG技术中的改良型硅化物形成，在形成尖端P通道晶体管时，半导体合金层形成于包括晶体管主动区的半导体层的表面上。当金属硅化物层相连于此半导体合金层而形成时，观察到金属硅化物层凝聚至隔离团簇内。为了解决这个问题，本发明提出一种方法及一种半导体装置，其中半导体合金层位在晶体管的源极与漏极区上的部分在形成金属硅化物层前予以移除。按照此方式，所形成的金属硅化物层是相连于半导体层而未相连于半导体合金层。专利说明用于无内嵌式S i G...
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