技术编号:7043686
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于一种。首先,在基底上形成材料层。然后,在材料层上形成灰化层。接着,在灰化层上形成图案化转移层。之后,以图案化转移层的补偿层为掩模,来图案化灰化层,以形成图案化灰化层。继之,以图案化灰化层为掩模,来图案化材料层。藉由本发明可以在维持元件密度的情况下制作较宽的字线,避免短沟道效应,提升元件的效能。另外,此方法可应用到制作较小的接触窗或介层窗,在不需更动现行设备及光刻胶的情况下,提高图案密度高达两倍。此外,本发明提供的可以制作自对准的双镶嵌开口,其...
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