技术编号:7043942
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及双图案化技术中减少颜色密度差异的针脚嵌入,揭示能减少两个互补曝光掩模及/或布局的窗口之间的密度差异的方法以及用于执行该方法的设备。具体实施例包括决定具有待由第一及第二掩模解析的特征的IC设计中的层;通过比较所述特征的第一集合的第一密度与所述特征的第二集合的第二密度来决定密度差异;决定在待由该第一掩模解析的第一特征的层上的区域;以及基于该密度差异,在该区域内嵌入待由该第二掩模解析的多边形。专利说明双图案化技术中减少颜色密度差异的针脚嵌入 [0...
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