技术编号:7045263
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明实施例公开了一种TFT阵列基板的制造方法,包括如下步骤在玻璃基板上采用第一道光罩工艺,形成栅极金属层和像素电极图案,所述第一道光罩工艺为半调式光罩工艺;采用第二道光罩工艺,形成栅极绝缘层、半导体层图案,所述第二道光罩工艺为半调式光罩工艺或灰调光罩工艺;采用第三道光罩工艺,形成源/漏极金属层和沟道。实施本发明实施例,简化了制造平板显示面板的非晶硅半导体或氧化物半导体TFT阵列基板的工艺流程,减少掩膜板的使用量,降低了生产成本。专利说明一种TFT阵列基板...
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