技术编号:7047345
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种,该包括在对第一介质层进行刻蚀后,向反应腔室通入第二反应气体,在第二射频功率的激发下所述第二反应气体形成等离子体,以使由第二反应气体形成的等离子体与反应腔室内的颗粒污染物结合;对所述反应腔室进行抽真空处理;对位于所述第一介质层下方的第二介质层进行刻蚀,本发明的技术方案可有效的避免在执行“转换步骤”过程中颗粒污染物掉落在玻璃基板上,同时,提高了抽真空的效率,减少了反应腔室内颗粒污染物的数量。专利说明[0001]本发明涉及显示,特别涉及一种。背...
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