技术编号:7047482
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种,其包括在所述鳍式场效晶体管中鳍的顶端设置一保护层,并形成一栅极层以及位于栅极层上表面的牺牲层;对所述栅极层上表面设置的牺牲层进行化学机械研磨,并停止于所述鳍的保护层;有选择地在栅极层中一栅极对应的栅极层和牺牲层上表面形成一光罩;通过刻蚀工艺刻蚀掉所述栅极层中一栅极之上的光罩,并停止于对应位置处的保护层;以及刻蚀掉所述栅极层中另一栅极上的保护层,以裸露所述栅极层中另一栅极;以及去除所述栅极层之上的剩余的牺牲层。本发明中,在分离栅极时,由于在...
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