技术编号:7048573
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种,涉及硅半导体器件芯片的烧结方法。包括以下步骤1)对硅片的背面进行金属化处理;2)当加热平台处于恒温时,将封装载体置于充满保护气的加热平台内进行预热;3)将进行背面金属化处理后的硅芯片放置到封装载体的指定烧结区上;4)在上述硅芯片的表面施加超声能量,使硅不断地扩散到芯片背面和烧结区的金属层中,实现硅与背面和烧结区金属的紧密结合;5)将烧结好的产品从加热平台上取下,按阶梯降温原则降温至室温,完成烧结过程。所述方法具有操作简单,生产效率高,可靠...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。