技术编号：7050527
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。，包括利用一层掩模版进行第一次光刻并刻蚀衬底上的掩模层以形成具有第一特征尺寸的图形；在该图形上沉积一层薄膜材料，形成均匀覆盖掩模图形的共形层，侧墙上薄膜的厚度为第一厚度；进行第二次光刻并刻蚀，其中光刻胶覆盖一部分薄膜材料，将光刻胶暴露的部分的薄膜材料减薄到具有第二厚度的侧墙；去除光刻胶，形成具有两种厚度侧墙的图形；各向异性地刻蚀薄膜材料，将掩模层顶部和底部的薄膜材料去除，只留下侧壁上的薄膜；灰化工艺选择性的去除掩模层，只留下薄膜材料形成的侧墙；薄膜材料作为...
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