技术编号:7050958
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种基于分立圆对称分布LD阵列的泵浦光高均匀度实现方法,特别是泵浦光经过两次匀化在激光晶体内形成均匀分布的方法。其中,第一次匀化通过光锥对LD泵浦光进行多次漫反射实现,第二次匀化通过激光晶体对入射到其内部泵浦光的多次全反射实现,进而提高晶体内泵浦光分布均匀性。与传统的泵浦方法相比,该方法在激光晶体内形成的泵浦光分布更加均匀,泵浦效率更高。专利说明基于分立圆对称分布LD阵列的泵浦光高均匀度实现方法 [0001]本发明涉及一种基于分立圆对称分布...
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