技术编号:7054321
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及,该方法属于薄膜光学领域,主要针对2μm波段Tm激光器腔镜用薄膜的瓶颈——薄膜的水吸收。2μm波段的激光处于水和水蒸气的强吸收区,且包含1.94μm、2.09μm和2.94μm等水吸收峰,已有的研究表明造成2μm波段激光薄膜损伤阈值低的主要因素就是薄膜内的水吸收。本发明通过采用离子源辅助沉积技术,离子源电压范围为600V~900V,同时采用金属Hf和石英环SiO2两种镀膜源材料,沉积速率分别为0.15nm/s和1nm/s,可以减少薄膜中吸收水的含...
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