技术编号：7054444
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种用于处理基材(1)的设备，该设备包含至少两个除气单元和至少一个处理单元，其中，一个第一除气单元包含具有加热所述基材(1)的装置的气锁器及处理监测传感器，所述气锁器连接于排空系统，一个第二除气单元包含用以加热所述基材的装置、用以吹气至所述基材之背面的气体供应器、处理监测传感器，所述第二除气单元连接于排空系统，至少一个后续处理单元包含用以主动冷却所述基材(1)的装置。专利说明用于处理基材的设备[0001] 本申请是申请日为2010年11月17日...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。