技术编号：7054907
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。提供一种基板处理设备。该基板处理设备包括处理容器，所述处理容器具有开口的上部；基板加热单元，所述基板加热单元在支撑基板时，加热设置在所述处理容器中的所述基板；以及处理溶液供应单元，所述处理溶液供应单元将处理溶液供应到设置在所述基板加热单元上的所述基板上。所述基板加热单元包括可旋转的卡盘台，在所述卡盘台上放置所述基板；具有中空形状的旋转部件，所述旋转部件被耦合到所述卡盘台以旋转所述卡盘台；以及热产生部件，所述热产生部件设置在所述卡盘台中。专利说明基板处理设备...
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