技术编号:7056700
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了金属栅工艺中金属的填充方法及其设备,包括提供一具有栅极沟槽的晶圆;在栅极沟槽的侧壁和底部依次沉积高K介质层和栅极材料层;在栅极沟槽中进行金属的填充;采用等离子体轰击位于栅极沟槽的顶部拐角的位置所填充的金属,以扩大栅极沟槽的顶部开口;多次重复金属的填充和等离子体轰击过程,直至金属填充满栅极沟槽;本发明可以提高金属填充的工艺窗口,减少栅极沟槽中填充的金属的空洞或缝隙缺陷,更加接近无空洞和无缝隙填充效果,提高了整个器件的电性能。并且,在此基础上所设计...
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