技术编号：7057524
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种阻变栅隧穿场效应晶体管，包括一个控制栅层、一个栅介质层、一个半导体衬底、一个隧穿源区、一个低掺杂漏区和一个沟道区；控制栅采用栅叠层结构，依次为底电极层、挥发性阻变材料层、顶电极层；挥发性阻变材料层为具有挥发性阻变特性的材料层；沟道区位于隧穿源区的上方，且位置与隧穿源区部分重叠，在沟道区与隧穿源区界面处形成隧穿结；低掺杂漏区位于控制栅的水平方向的另一侧，且与控制栅之间有水平间距；低掺杂漏区和隧穿源区掺有不同掺杂类型的杂质；半导体衬底和沟道区的掺杂类型和隧...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。