技术编号:7059104
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及太阳能电池领域,尤其涉及,具体包括将硅片基底清洗、扩散、蚀刻、减反射膜沉积;在经过减反射膜沉积后的硅片基底的背面印刷银电极,同时将印刷了银背电极的硅片基底在氮气氛围中烘干;在烘干后印刷了银背电极的硅片基底上印刷铝背电场,同时将印刷了铝被电场的硅片基底在氮气氛围中烘干;在烘干后的印刷了铝被电场的硅片基底上印刷正面银栅电极,同时将印刷了正面银栅电极的硅片基底在氮气氛围中烘干;将烘干后的印刷了正面银栅电极的硅片基底在氮气氛围中高温烧结,形成太阳能电池。...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。