技术编号:7061596
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种图形化衬底及其制备方法、外延片制作方法及外延片,属于发光二极管领域。所述方法包括采用光刻胶掩膜在蓝宝石衬底上形成多个光刻胶凸起,多个所述光刻胶凸起为柱体结构、台体结构和锥体结构中的至少一种;在设置有所述光刻胶凸起的蓝宝石衬底上沉积一层二氧化硅层;采用光刻胶掩膜及刻蚀工艺刻蚀所述二氧化硅层直至裸露出部分蓝宝石衬底,形成多个二氧化硅凸起,每个所述二氧化硅凸起内部包含一个所述光刻胶凸起,多个所述二氧化硅凸起为柱体结构和台体结构中的至少一种;利用显...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。