技术编号:7065291
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种薄膜晶体管、其制备方法、阵列基板及显示装置,由于钝化层的材料为负性光刻胶或正性光刻胶,因此,在通过一次构图工艺形成有源层的图形、以及覆盖有源层的钝化层的图形时,可以利用钝化层作为制备有源层的图形的光刻胶,并且,在构图后不对残留在有源层上的负性光刻胶或正性光刻胶材料的钝化层进行去胶处理,因此,与现有技术相比,可以避免在去胶过程中存在的对有源层的性能的直接破坏作用,从而保证薄膜晶体管的性能。另外,保留的钝化层可以作为有源层的保护层防止杂质从有源...
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