技术编号:7065645
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了一种。该掩模板包括第一条形图案;以及辅助对准窗口,为与所述第一条形图案垂直的条形图案;其中,所述第一条形图案与辅助对准窗口均为透明图案,在曝光之前,通过所述辅助对准窗口可观察所述第一条形图案与下方半导体基体上的第二条形图案的对准情况。本发明能够借助辅助对准窗口观察第一条形图案是否与下方半导体基体上的第二条形图案对准,方便了两者位置的修正,从而达到提高对版精度和研发效率。专利说明 [0001]本发明涉及半导体,尤其涉及一种。 背景技术 ...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。