技术编号:7070472
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型揭示了一种晶圆背面清洗装置,包括清洗结构,用于对晶圆的背面进行清洗,吹扫结构,所述吹扫结构与清洗结构相对设置,且位于所述清洗结构的正上方,以在清洗时对所述晶圆边缘提供高压气体进行保护。所述吹扫结构在晶圆清洗时提供高压气体,从而能够抵御清洗液侵蚀到晶圆上表面,能够提高产品的质量,减少甚至避免缺陷的产生,提高了良率。专利说明晶圆背面清洗装置[0001]本实用新型涉及半导体制造设备,特别是涉及一种晶圆背面清洗装置。背景技术[0002]随着晶体管尺寸的不...
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