技术编号：7083699
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于硅表面处理，涉及一种硅片在室温溶液中利用微等离子体进行表面改性技术工艺，具体涉及，适用于太阳能光电转化领域。背景技术硅是太阳能电池制备的关键材料。因入射光在硅片表面有30%发生反射，所以提高硅片表面的光吸收和转化能力一直受到关注。硅表面织构化处理形成纳米多孔硅薄膜是提高光吸收和转化能力其中的方法之一。文献(薛艳，卢斌，任小明，解瑞珍，刘兰，张晶鑫，梁国英，纳米多孔硅含能材料性能研究，含能材料，18 (5) 2010 =523-526.)和文献 (...
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