技术编号:7098871
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及太阳电池材料,特别涉及。背景技术 高效率、低成本一直是光伏产业追求的目标。对硅基太阳电池而言,光学损失是阻碍太 阳电池效率提高的重要障碍之一,为减小太阳电池表面对光的反射主要有两条途径一是制作减反射薄膜,二是用稀释的NaOH溶液作为选择性腐蚀剂进行硅的表面织构。这两项技术曾对单晶硅太阳电池发展做出了重要的贡献,并延用至今。但不可否认的是,以上两项技术仍存在一些缺点减反射膜凭借光的相消干涉仅作用于特定波长,且对入射光角度敏感,因而未能充分吸收太阳光...
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