技术编号:7099842
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及的是一种微机电的方法,具体地说,是一种。背景技术 在微电子工艺中,通常采用光学光刻的方法来形成图案,但其成本高,而且出现了许多重要的技术难题,如分辨率及材料的选择,同时光学光刻不适合加工非平整表面、不能在表面形成特定的化学功能基团和难以形成三维结构。电子束光刻生产效率太低;X线光刻的工具相当昂贵。纳米压印采用高分辨率电子束或离子束等方法将纳米结构图案制在印章上,然后用图案化的印章使聚合物材料变形而在聚合物上形成结构图案。具体过程是首先将聚合物旋涂...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。