技术编号:7100293
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于一种在刻蚀后防止腐蚀及再刻蚀的方法,特别是有关于一种。背景技术刻蚀工艺(Etch process)可以分为湿法刻蚀(Wet etching)及干法刻蚀(Dryetching)两类。在湿法刻蚀中是使用化学溶液,经由化学反应以达到刻蚀的目的,而干法刻蚀通常是一种等离子体刻蚀(Plasma etching),等离子体刻蚀的刻蚀机制基本上是一种物理交互作用,其最大优点即是各向异性刻蚀(Anisotropic etching)。各向异性刻蚀意指在刻蚀过...
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