技术编号:7100672
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种,更具体而言,涉及一种具有簇结构的 基材处理设备和使用它的基材处理方法。背景技术通过经由几种工艺来处理诸如硅晶片等基材并在经处理的基材上形成电路图案,从而制作半导体器件。一般地,这种半导体器件通过以下过程制作用于在基材上形成薄氧化物层的氧化过程、用于涂布光致抗蚀剂的光致抗蚀剂过程、用于将对应于电路图案的光照射到基材上的曝光过程、用于使照射光的层显影的显影过程、用于选择性地除去不必要的部分以形成电路图案的蚀刻处理、用于将杂质注入基材的与电路图案...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。