技术编号：7106865
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明的实施例涉及一种用于基板处理腔室中的遮蔽件。·背景技术在集成电路及显示器的工艺中，诸如半导体晶片或显示面板等基板会放置在处理腔室中，并且设定腔室内的处理条件以在基板上沉积或蚀刻材料。典型的处理腔包含多种腔室部件，所述腔室部件包括用以圈出处理区域的圈围室壁、提供工艺气体至腔室中的气体供应器、激发工艺气体以处理基板的气体激发器(energizer)、用以排放及去除用毕气体且维持腔内压力的气体出口，以及用以支撑基板的基板支撑件。此类腔室可包括例如溅射或物理...
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