技术编号:7110365
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体集成电路领域,特别涉及一种应用于半导体器件制造的真空控制系统。背景技术随着信息科技日新月异,集成电路在日常生活中扮演重要的角色,其需求相对也大幅提升,人们对集成电路的集成度要求越来越高,这就要求企业对半导体器件的加工能力也不断提高。通常来说,半导体器件的加工工艺必需应用到真空系统,随着对于半导体产 品质量需求的增加,相对的在产品制造过程中对于真空度的要求也越来越高,因此,真空系统的结构与设计已经成为半导体器件制造的重要因素。目前,真空系统一...
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