技术编号:7110396
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及。背景技术近几年,有机电子学取得突破性的进展。有机场效应晶体管和电路作为重要的一个分支也引起广泛的关注,其在有机电子器件,比如柔性电子显示器,传感器,有机电子标签和电子纸等,取得很好的成果。光刻技术是一种很重要加工晶体管和电路的技术,它与打印和蒸镀技术相比,因其纳米级别的分辨率和高的集成度的特性使其越来越得到人们的关注。然而,大多数的有机材料不能承受光刻过程中溶液的处理,所以寻找合适的绝缘层是现在的当务之急。目前为止,无机绝缘层材料(二氧化硅和氮...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。