技术编号：7110583
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及处理基板的装置和方法，更详细地，涉及对基板实施烘烤工序的基板处理装置和方法。背景技术为了制造半导体元件或液晶显示器，实施以下多种工序光刻、刻蚀、离子注入蒸镀和洗净。这样的工序中，光刻工序使基板上形成所需的图案。光刻工序依次实行下述工序涂敷工序，向基板上涂敷如光刻胶这样的药液；曝光工序，在涂敷的感光膜上形成特定的图案；以及显影工序，在曝光的感光膜上去除不必要的区域。其中，在涂敷洗净工序中，如向基板上涂敷药液，则要使被涂敷的药液干燥。在使药液干燥的工...
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