技术编号：7117785
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及太阳电池制造领域，具体涉及一种可进行氢氟酸回收利用的清洗>J-U ρ α 装直。背景技术在晶体硅太阳电池行业中，氢氟酸(HF)因能去除硅片表面的氧化物而获得了广泛的应用，例如作为清洗剂或配合氧化剂对硅片进行腐蚀。氢氟酸是一种较危险的酸，其易与人体骨骼中的钙离子反应，从而对人体造成严重的伤害，因而在配置或更换氢氟酸溶液时操作人员需谨慎操作。氢氟酸废液需要进行严格处理后才能排放，现通常通过氢氧化钙溶液(石灰水)与氟离子形成氟化钙沉淀，但该种...
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