技术编号：7119872
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及全息或光致变介质领域，一种提供全息或光致变介质的方法及在基片上形成全息或光致变图像的方法。更具体地说是提供一种包括多个浮雕凸台(embossed panels)的多层全息或光致变材料，以便通过将像素从一个或多个凸台转移到基片上将单个定制的全息或光致变图像印制在基片上。背景技术 全息或光致变图像已被用于需要将一、二或三维图像的外貌重现在各种不同基片上的情况。包含浮雕全息图像的反射性透明、半透明和不透明材料可用于装饰和安全应用中。包含全息或光致变图像...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。