技术编号：7120533
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于干燥设备领域，特别涉及一种用来处理HMDS的真空烘箱。背景技术HMDS作为一种增粘剂，可有效增加光刻胶与硅片之间的吸附力，在硅片的光刻工艺中逐渐开始应用，但其本身具有毒性且易挥发，因此使用HMDS的工序需要在真空的状态下进行，否则会对操作人员造成伤害；国内现有的厂商在硅片上涂光刻胶很少有使用HMDS作为增粘剂，由于吸附力不够，这样涂胶就不均匀，更严重的会导致光刻胶脱落实用新型内容本实用新型要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供了一种用来处理H...
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